Estetik kuron iş akışı
Hangi materyali seçmeliyim?
Initial Lisi Press ve Initial LiSi Block
Kuron
Küçük 3 üyeli anterior köprü
Initial LiSi Block
Optimum fiziksel özelliklere fırınlama yapmadan ulaşabileceğiniz tamamen kristalize lityum dislikat blok.
- Fırınlama gerektirmediğinden zaman kazandıran tamamen kristalize lityum disilikat blok
- Uzun süreli estetik & kusursuz bir uyum için net marjinler
- Gerçek güzellik için doğal
- Yüksek fiziksel özellikler ve HDM teknolojisi sayesinde posterior bölgede uzun ömürlük restorasyonlar sağlar.
- Initial IQ ONE SQIN ile makyaj ve mikro yıpım imkanı
- MPa = 300 < x < 500
Initial LiSi Press
Dayanıklılık ve olağanüstü estetiği bir araya getiren seramik press materyali
- HDM teknolojisi sayesinde uzun süreli ve olağanüstü estetik sonuçlar
- Mükemmel cilalanabilirlik (intraoral cilananabilirlik de sağlar)
- Mükemmel aşınma direnci ve doğal opalesans
- Daha az reaksiyon tabakası oluşumu ve zaman tasarrufu
- Marjinal chipping oluşumuna karşı direnç & mükemmel marjinal uyum
- MPa= 580
Initial Zirconia Disk, UHT (Ultra-High Translucency)
Kuron
Küçük 3 üyeli anterior köprü
3 üyeli posterior köprü
Initial Zirconia Disk
En zorlu vakalarınız için mükemmel altyapı
- Yüksek çiğneme kuvveti
- Subgingival marjinler
- Translusens ve sertlik seviyesi seçenekleri (yttria içeriğine bağlı olarak)
- Tamamen Initial seramik ailesine uyumludur
- MPa UHT= 600
Initial Zirconia Disk, HT (High Translucency)
Kuron
Small 3-unit anterior bridge
3 üyeli posterior köprü
Multi-üye köprü
Initial Zirconia Disk
En zorlu vakalarınız için mükemmel altyapı
- Yüksek çiğneme performansı
- Subgingival marjinler
- Translusens ve sertlik seviyesi seçenekleri (yttria içeriğine bağlı olarak)
- Tamamen Initial seramik ailesine uyumludur
- MPa= 1200
Restorasyonun preparasyonu nasıl yapılmalı?
Malzemeye göre kalınlığı ayarlayın
Doğru miktarda dokunun kaldırılması, altyapının minimum kalınlığını koruyarak en az invaziv şekilde hazırlanmanızı sağlar.
Malzemenin marjin uyumunu sağlayın
Round shoulder ve deep chamfer uzun yıllardır kendini kanıtlamış yatay geometrik yöntemler olsa da, bitim çizgileri olmayan vertipreplerin popülaritesi giderek artmaktadır. Biyolojik olarak yönlendirilmiş preparasyon tekniği (BOPT) gibi dikey preparasyon tekniklerinin 5Y-zirkonya (Initial Zirconia Disk HT) ile kullanımı uygundur.
Minimum altyapı boyutu
Initial LiSi Block & Press
Initial Zirconia Disk UHT
Initial Zirconia Disk HT
Önerilen marjin tipleri
Deep chamfer
Round shoulder
İlk Zirkonya Disk
HT için Kabul Edildi
Feather edge
Bitim nasıl yapılmalı?
GC Initial’ın başlangıç aşamasından bitim aşamasına kadar olan kolay adımları ile iş akışını deneyimleyin.
Biliyor musun?
-
Başlangıç LiSi Bloğunun tam güce ulaşması için ateşlemeye gerek yoktur. Ayrıca karakterizasyon gerekmiyorsa basitçe cilalanabilir!
-
Beyaz zirkonyayı Zirkonya Renklendirici Sıvılar ile kişiselleştirebilirsiniz (sadece birkaç dakika içinde!)
Batırmak…
… veya boya
Tam kontur
Initial IQ Lustre Pastes ONE
(zirkonya ve lityum disilikat) ile monolitik makyaj
Monolitik altyapı
Initial IQ Lustre Pastes ONE
Hazır!
Mikro cutback
Initial IQ Lustre Pastes ONE
(zirkonya ve lityum disilikat) ile mikro tabakalama
Bukkal bölgede micro-redüksiyon
Initial IQ Lustre Pastes ONE
SQIN
Hazır!
Cutback
Initial Zr-FS (zirconya)
veya Initial LiSi (lityum disilicate) ile tabakalama
Bukkal bölgede cutback
Dahili ve FLUO tabakaları
Mine tabakalama
Hazır!
Simantasyon nasıl yapılır?
Initial LiSi Block & Initial LiSi Press için ön hazırlık
1. Feldspatik ve lösit takviyeli seramiklerde 60 saniye ve lityum disilikat seramiklerde 20 saniye boyunca hidroflorik asit (~%5-9) ile asitleyin.
2. Yıkayın ve kurutun
3. G-Multi PRIMER* uygulayın
*Fuji PLUS, FujiCEM 2 SL veya FujiCEM Evolve kullanımında primer kullanımı gerekli değildir.
4. Hava ile kurutun
G-CEM ONE ile bonding
Universal Self-adeziv Rezin Siman
Retantif olmayan preparasyon
Yüksek seviye estetik beklentisi
Izolasyonun sağlandığı durumlar
Ekstra adezyon gereken durumlar
Zirconya ön hazırlığı
1. Eğer laboratuvarda yapılmadıysa kumlama işlemi yapılmalıdır (AI2O3 < 50µm)
2. Yıkayın ve kurutun
3. G-Multi PRIMER uygulayın*
*Fuji PLUS, FujiCEM 2 SL veya Fujicem Evolve kullanımında primer kullanımı gerekli değildir.
4. Hava ile kurutun
FujiCEM Evolve ile simantasyon
Retantif preparasyon
Çimentoya özel bir estetik gereklilik yoktur
İzolasyonun gerçekleşmediği durumlar
Özel ihtiyaçları olan hastalar
Makaleler, videlar vb.
Makaleler
Ropörtajlar
Vakalar
Video
Diğer materyaller
İlgili ürünler
Initial LiSi Press
Press sistemi için lityum disilikat çözümler
Initial LiSi Block
CAD/CAM için lityum disilikat çözümler
Initial IQ Lustre Pastes ONE
Üç boyutlu makyaj seramiği
Initial LiSi
Lityum disilikat için seramik sistemi
G-CEM ONE
Self adeziv rezin siman sistemi
Initial Zirconia Disks
Zorlu vakalar için CAD/CAM zirkonya disk
Initial Zirconia Coloring Liquids
Ön sinterleme yapılmış zirkonya altyapılar için su bazlı renklendirici sıvılar
Initial IQ ONE SQIN
Makyaj ve mikro takabalama sistemi
Initial Zr-FS
Zirkonya altyapılar için seramik sistemi
FujiCEM Evolve
Rezin modifiye cam iyonomer siman